ขายส่ง NiTi สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่าย |รวย

นิกเกิลไทเทเนียม

NiTi Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเองเป็นภาพที่โดดเด่น

คำอธิบายสั้น:

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	นิติ
องค์ประกอบ	นิกเกิลไทเทเนียม
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ PM
ขนาดที่มีจำหน่าย	L≤200มม.,W≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดผลิตภัณฑ์

แท็กสินค้า

คำอธิบายเป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียม

เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียมผลิตขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศและ PMสามารถสังเกตทั้งโครงสร้างมาร์เทนไซต์และออสเทนไนต์ได้เนื่องจากการเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิและความเค้นเชิงกล
โลหะผสมนิกเกิลไทเทเนียมเป็นหนึ่งในโลหะผสมหน่วยความจำรูปร่าง (SMA)SMA สามารถคืนรูปร่างเดิมได้โดยผ่านความร้อนหรือความเครียดที่เหมาะสมหลังจากทนต่อการเสียรูปทางกลที่อุณหภูมิต่ำการเคลือบ SMA แสดงคุณสมบัติที่เป็นประโยชน์มากมาย: ผลการจดจำรูปร่าง, ความต้านทานการแตกหัก, ความยืดหยุ่นสูง, ความแข็งแรงที่เพิ่มขึ้น และความเหนียวเนื่องจากคุณสมบัติเฉพาะของฟิล์มบาง NiTi เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียมจึงถูกนำไปใช้อย่างกว้างขวางในหลายอุตสาหกรรม: ศัลยกรรมกระดูก หลอดเลือดหัวใจและทันตกรรมจัดฟัน เครื่องมือผ่าตัด และศัลยกรรมระบบประสาท

บรรจุภัณฑ์เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียม

เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียมของเรามีการติดแท็กและติดป้ายกำกับไว้ภายนอกอย่างชัดเจน เพื่อให้มั่นใจในการระบุตัวตนและการควบคุมคุณภาพที่มีประสิทธิภาพมีการใช้ความระมัดระวังเป็นอย่างยิ่งเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายที่อาจเกิดขึ้นระหว่างการจัดเก็บหรือการขนส่ง

บรรจุภัณฑ์เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียม

รับการติดต่อ

เป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิลไทเทเนียมของ RSM มีความบริสุทธิ์สูงและสม่ำเสมอเป็นพิเศษมีจำหน่ายในรูปแบบ ความบริสุทธิ์ ขนาด และราคาต่างๆเราเชี่ยวชาญในการผลิตวัสดุเคลือบฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม เช่นเดียวกับความหนาแน่นสูงสุดที่เป็นไปได้และขนาดเกรนเฉลี่ยที่เล็กที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้สำหรับใช้ในการเคลือบแม่พิมพ์、การตกแต่ง、ชิ้นส่วนรถยนต์、กระจก low-E、วงจรรวมกึ่งตัวนำ、ฟิล์มบาง ความต้านทาน、จอแสดงผลกราฟิก、การบินและอวกาศ、การบันทึกแม่เหล็ก、หน้าจอสัมผัส、แบตเตอรี่พลังงานแสงอาทิตย์แบบฟิล์มบางและการใช้งานการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) อื่น ๆกรุณาส่งคำถามถึงเราสำหรับการกำหนดราคาปัจจุบันเกี่ยวกับเป้าหมายสปัตเตอร์และวัสดุการทับถมอื่น ๆ ที่ไม่อยู่ในรายการ

ก่อนหน้า: NiMo Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: NiTa Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง