CrW Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

เป้าหมายถูกเตรียมโดยการผสมผงโครเมียมและทังสเตน หรือการหลอมสุญญากาศ ตามด้วยการบดอัดจนมีความหนาแน่นเต็มที่วัสดุที่ถูกบดอัดดังกล่าวสามารถเลือกที่จะเผาผนึกได้ จากนั้นจึงขึ้นรูปเป็นรูปร่างเป้าหมายที่ต้องการ

เป้าหมายสปัตเตอร์ทังสเตน Chrome มีความบริสุทธิ์สูง โครงสร้างจุลภาคที่เป็นเนื้อเดียวกัน ความหนาแน่นสูงและขนาดเกรนละเอียดHIP สามารถประดิษฐ์เป็นขนาดใหญ่ได้การเคลือบ Cr-W เหมาะอย่างยิ่งสำหรับอุตสาหกรรมและการใช้งานหลายประเภท เนื่องจากมีความต้านทานการกัดกร่อน ความแข็ง ความทนไดอิเล็กทริก และกระแสสับขั้นต่ำ

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์สามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ทังสเตนโครเมียมตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา