NiAl Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสมนิกเกิลอลูมิเนียมผลิตโดยวิธีการหลอมสูญญากาศและโลหะผสมพลังงานผสมอลูมิเนียมและนิกเกิลในปริมาณที่จำเป็นเพื่อให้ได้ลิ่มหล่อ NiAlจากนั้นจึงนำแท่งหล่อมาตัดให้ได้รูปทรงที่ต้องการมีความสม่ำเสมอสูง ขนาดเกรนละเอียด และโครงสร้างจุลภาคที่เป็นเนื้อเดียวกัน โดยไม่มีพัฟหรือรูพรุน

เนื่องจากการผสมผสานที่ยอดเยี่ยมระหว่างวัสดุเคลือบและวัสดุซับสเตรต การเคลือบ NiAl จึงมีประสิทธิภาพที่ดีภายใต้อุณหภูมิ 700°Cปัจจุบัน เป้าหมายการสปัตเตอร์ NiAl ถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในการเคลือบที่ทนทานต่อการสึกหรอ รวมถึงเครื่องมือตัด แม่พิมพ์ อุตสาหกรรมยานยนต์ และการก่อสร้าง

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์อลูมิเนียมนิกเกิลตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา