การใช้วัสดุเป้าหมายอย่างกว้างขวางในอาชีพต่างๆ ทำให้ความต้องการวัสดุเป้าหมายสูงขึ้นเรื่อยๆต่อไปนี้ เราจะ แนะนำสั้น ๆ คุณ ข้อกำหนดการทำงานหลักของเป้าหมายคืออะไร ฮอปไอเอ็นจี ช่วยคุณ.
ความบริสุทธิ์: ความบริสุทธิ์เป็นหนึ่งในตัวบ่งชี้การทำงานหลักของชิ้นงาน เนื่องจากความบริสุทธิ์ของชิ้นงานมีผลกระทบอย่างมากต่อการทำงานของฟิล์มแต่ในทางปฏิบัติ ความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมายไม่เหมือนกันตัวอย่างเช่น ด้วยการเติบโตอย่างรวดเร็วของอาชีพไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ขนาดของเวเฟอร์ซิลิคอนได้พัฒนาจาก 6 ", 8" เป็น 12″ และความกว้างของสายไฟลดลงจาก 0.5um เป็น 0.25um, 0.18um และแม้กระทั่ง 0.13umเมื่อความบริสุทธิ์เป้าหมาย 99.995% สามารถตอบสนองความต้องการทางเทคโนโลยีที่ 0.35UMICการเตรียมสาย 0.18um ต้องใช้ความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมาย 99.999% หรือ 99.9999%
ความหนาแน่น: เพื่อลดความพรุนในของแข็งเป้าหมายและปรับปรุงการทำงานของฟิล์มสปัตเตอร์ โดยปกติแล้วชิ้นงานจะต้องมีความหนาแน่นสูงความหนาแน่นของเป้าหมายไม่เพียงส่งผลต่ออัตราการสปัตเตอร์เท่านั้น แต่ยังส่งผลต่อคุณสมบัติทางไฟฟ้าและทางแสงของฟิล์มด้วยยิ่งความหนาแน่นของเป้าหมายสูงเท่าใด ฟังก์ชั่นของฟิล์มก็จะยิ่งดีขึ้นเท่านั้น นอกจากนี้ ความหนาแน่นและความแข็งแรงของวัสดุเป้าหมายยังเพิ่มขึ้นเพื่อให้สามารถทนต่อความเครียดจากความร้อนในระหว่างการสปัตเตอร์ได้ดีขึ้นความหนาแน่นยังเป็นหนึ่งในตัวชี้วัดการทำงานที่สำคัญของสารเป้าหมายอีกด้วย
ปริมาณสิ่งเจือปน: สิ่งเจือปนในของแข็งเป้าหมายและออกซิเจนและไอน้ำในรูขุมขนเป็นแหล่งมลพิษหลักของฟิล์มที่สะสม วัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกันสำหรับวัตถุประสงค์ที่แตกต่างกันมีข้อกำหนดที่แตกต่างกันสำหรับปริมาณสิ่งเจือปนที่แตกต่างกันตัวอย่างเช่น เป้าหมายอะลูมิเนียมบริสุทธิ์และโลหะผสมอลูมิเนียมที่ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์มีข้อกำหนดพิเศษสำหรับปริมาณโลหะอัลคาไลและองค์ประกอบกัมมันตภาพรังสี
เวลาโพสต์: Jun-06-2022