สาเหตุของการเกิดร่องบนพื้นผิวของเป้าหมายไนโอเบียม

วัสดุเป้าหมายไนโอเบียมส่วนใหญ่จะใช้ในการเคลือบแสง การเคลือบวัสดุทางวิศวกรรมพื้นผิว และอุตสาหกรรมการเคลือบ เช่น ทนความร้อน ทนต่อการกัดกร่อน และค่าการนำไฟฟ้าสูงในด้านการเคลือบแสง ส่วนใหญ่จะใช้ในผลิตภัณฑ์เกี่ยวกับสายตา เลนส์ เลนส์ที่มีความแม่นยำ การเคลือบในพื้นที่ขนาดใหญ่ การเคลือบ 3 มิติ และด้านอื่น ๆ

วัสดุเป้าหมายไนโอเบียมมักเรียกว่าเป้าหมายเปล่ามันถูกเชื่อมเข้ากับเป้าหมายด้านหลังของทองแดงก่อน จากนั้นจึงสปัตเตอร์เพื่อฝากอะตอมไนโอเบียมในรูปของออกไซด์ไว้บนวัสดุซับสเตรต เพื่อให้ได้การเคลือบสปัตเตอร์ด้วยความลึกและการขยายตัวอย่างต่อเนื่องของเทคโนโลยีและการประยุกต์ใช้เป้าหมายไนโอเบียม ข้อกำหนดสำหรับความสม่ำเสมอของโครงสร้างจุลภาคเป้าหมายไนโอเบียมได้เพิ่มขึ้น โดยส่วนใหญ่ปรากฏในสามด้าน: การปรับแต่งขนาดเกรน ไม่มีการวางแนวพื้นผิวที่ชัดเจน และการปรับปรุงความบริสุทธิ์ทางเคมี

การกระจายตัวของโครงสร้างจุลภาคและคุณสมบัติที่สม่ำเสมอทั่วทั้งชิ้นงานมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการรับประกันประสิทธิภาพการสปัตเตอร์ของวัสดุเป้าหมายไนโอเบียมพื้นผิวของเป้าหมายไนโอเบียมที่พบในการผลิตภาคอุตสาหกรรมมักจะแสดงรูปแบบปกติ ซึ่งส่งผลกระทบอย่างมากต่อประสิทธิภาพการสปัตเตอร์ของเป้าหมายเราจะปรับปรุงอัตราการใช้ประโยชน์ของเป้าหมายได้อย่างไร?

จากการวิจัยพบว่าปริมาณสิ่งเจือปน (ความบริสุทธิ์ของเป้าหมาย) เป็นปัจจัยสำคัญที่ส่งผลต่อความบริสุทธิ์องค์ประกอบทางเคมีของวัตถุดิบไม่สม่ำเสมอและมีสิ่งสกปรกเพิ่มมากขึ้นหลังจากกระบวนการรีดในภายหลัง รูปแบบปกติจะเกิดขึ้นบนพื้นผิวของวัสดุเป้าหมายไนโอเบียมการขจัดการกระจายตัวของส่วนประกอบวัตถุดิบที่ไม่สม่ำเสมอและการเพิ่มปริมาณสิ่งเจือปนสามารถหลีกเลี่ยงการก่อตัวของรูปแบบปกติบนพื้นผิวของเป้าหมายไนโอเบียมอิทธิพลของขนาดเกรนและองค์ประกอบทางโครงสร้างที่มีต่อวัสดุเป้าหมายนั้นแทบไม่มีความสำคัญเลย