ยินดีต้อนรับสู่เว็บไซต์ของเรา!

WCU Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงสั่งทำพิเศษ

ทองแดงทังสเตน

คำอธิบายสั้น:

หมวดหมู่

เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม

สูตรเคมี

WCU

องค์ประกอบ

ทองแดงทังสเตน

ความบริสุทธิ์

99.9%,99.95%,99.99%

รูปร่าง

เพลท, เป้าหมายคอลัมน์, แคโทดโค้ง, สั่งทำพิเศษ

กระบวนการผลิต

PM

ขนาดที่มีจำหน่าย

ยาว≤200มม.,กว้าง≤200มม


รายละเอียดผลิตภัณฑ์

แท็กสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสมทองแดงทังสเตนถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยวิธีโลหะผงปริมาณทองแดงส่วนใหญ่อยู่ระหว่าง 10% ถึง 50%มีค่าการนำความร้อนและไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม มีความแข็งแรงและความเหนียวที่อุณหภูมิสูงที่อุณหภูมิสูงมาก เช่น สูงกว่า 3000°C ทองแดงในโลหะผสมจะถูกทำให้เป็นของเหลวและระเหยไป โดยดูดซับความร้อนจำนวนมาก และลดอุณหภูมิพื้นผิวของวัสดุวัสดุประเภทนี้เรียกอีกอย่างว่าวัสดุที่ทำให้เหงื่อออกของโลหะ

เนื่องจากโลหะทั้งสองของทังสเตนและทองแดงเข้ากันไม่ได้ โลหะผสมทังสเตน-ทองแดงจึงมีการขยายตัวต่ำ ความต้านทานการสึกหรอ ความต้านทานการกัดกร่อนของทังสเตน และการนำไฟฟ้าและความร้อนสูงของทองแดง และเหมาะสำหรับการแปรรูปทางกลต่างๆโลหะผสมทังสเตน-ทองแดงสามารถผลิตได้ตามความต้องการของผู้ใช้สำหรับการผลิตอัตราส่วนทังสเตน-ทองแดงและการประมวลผลขนาดโลหะผสมทังสเตน-ทองแดงโดยทั่วไปใช้กระบวนการโลหะผสมผงเพื่อเตรียมการแทรกซึมของการแทรกซึมแบบผสมแบบผง-ชุด-กดขึ้นรูปแบบ-การเผาผนึก

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเชี่ยวชาญในการผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ทองแดงทังสเตนตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา


  • ก่อนหน้า:
  • ต่อไป: