CuP สปัตเตอร์เป้าหมายการเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

โดยทั่วไปแล้วโลหะผสมทองแดงฟอสฟอรัสจะถูกใช้ในการกำจัดออกซิไดซ์ทองแดงและโลหะผสมทองแดงแม้ว่าจะมีสารต้านอนุมูลอิสระอื่นๆ มากมาย แต่ฟอสฟอรัสก็แสดงให้เห็นว่าประหยัดที่สุด
โลหะผสมทองแดงฟอสฟอรัสยังทำหน้าที่เป็นสารผสมเพื่อเพิ่มฟอสฟอรัสจำนวนหนึ่งลงในโลหะผสมทองแดง ซึ่งรวมถึงฟอสเฟอร์บรอนซ์และโลหะผสมสำหรับการบัดกรีหลายชนิดการเติมฟอสฟอรัสช่วยเพิ่มความลื่นไหลของโลหะ

โลหะผสมต้นแบบ CuP8 ใช้ในอุตสาหกรรมอะลูมิเนียมเพื่อบำบัดโลหะผสมอะลูมิเนียมหล่อซิลิกอนไฮเปอร์ยูเทคติก เพื่อควบคุมรูปร่างและขนาดของเฟสซิลิคอนปฐมภูมิที่แข็งตัว เพื่อเพิ่มความสามารถในการขึ้นรูป ความต้านทานการสึกหรอ และความเหนียวของโลหะผสมเมื่อใช้โลหะผสมทองแดงฟอสฟอรัสเพื่อการกำจัดออกซิเดชัน การได้รับระดับฟอสฟอรัสตกค้างที่ 0.010% ถึง 0.015% ถือเป็นแนวทางปฏิบัติทั่วไปในการป้องกันการเกิดปฏิกิริยาออกซิเดชั่น โดยเฉพาะอย่างยิ่งในระหว่างกระบวนการหล่อ

โลหะผสมทองแดงฟอสฟอรัสทำหน้าที่เป็นสารชะล้างที่มีประสิทธิภาพสำหรับโลหะผสมทองแดง-ตะกั่ว-ดีบุก ทองแดง-ดีบุก-สังกะสี และโลหะผสมทองแดง-ดีบุกอย่างไรก็ตาม ไม่สามารถใช้ในการกำจัดออกซิไดซ์ทองแดงที่มีค่าการนำไฟฟ้าสูงได้ เนื่องจากฟอสฟอรัสเป็นอันตรายต่อการนำไฟฟ้า

Rich Special Materials เชี่ยวชาญในการผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ทองแดงฟอสฟอรัสตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา