ขายส่ง CrNi Alloy Sputtering เป้าหมายฟิล์มบาง Pvd ที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ผู้ผลิตและจำหน่าย |รวย

โครเมียมนิกเกิล

CrNi Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ภาพเด่น

คำอธิบายสั้น:

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	CrNi
องค์ประกอบ	โครเมียมนิกเกิล
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ
ขนาดที่มีจำหน่าย	ยาว≤4000มม.,กว้าง≤350มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดผลิตภัณฑ์

แท็กสินค้า

ด้วยประสิทธิภาพที่ดีในการต้านทานการเกิดออกซิเดชันและการกัดกร่อน เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสม CrNi จึงถูกใช้อย่างกว้างขวางในงานอุตสาหกรรมหลายประเภท เช่น แก้ว Low-E, ไมโครอิเล็กทรอนิกส์, การบันทึกแม่เหล็ก, เซมิคอนดักเตอร์ และตัวต้านทานแบบฟิล์มบาง

Chronium Nickel Sputtering Target ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมการเคลือบแก้ว รวมถึงการเคลือบกระจกรถยนต์ เพื่อลดการสะท้อน เพิ่มการส่งผ่านของแสง และแก้ปัญหาภาพหลอนนอกจากนี้การเคลือบ PVD ยังช่วยชะลออัตราการเสื่อมสภาพและยืดอายุการใช้งานของผลิตภัณฑ์อีกด้วย

กระจก Low-E หรือการปล่อยรังสีต่ำถูกสร้างขึ้นเพื่อลดปริมาณแสงอินฟราเรดและอัลตราไวโอเลตที่ส่องผ่านกระจกของคุณ โดยไม่ลดปริมาณแสงที่เข้าสู่บ้านของคุณหน้าต่างกระจก Low-E มีการเคลือบบางๆ ที่โปร่งใสและสะท้อนความร้อน ทำให้อุณหภูมิคงที่โดยการสะท้อนอุณหภูมิภายในกลับเข้าไปด้านในโครเมียมนิกเกิลมักถูกสะสมอยู่ด้านนอกสุดเพื่อทำหน้าที่เป็นชั้นต้านอนุมูลอิสระและต้านทานการกัดกร่อน

ตัวต้านทานแบบฟิล์มบางที่ผลิตโดยโลหะผสมโครเมียมนิกเกิลมีข้อดีหลายประการ: ความต้านทานสูง ค่าสัมประสิทธิ์อุณหภูมิต่ำ และความไวสูง และใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่าง ๆ รวมถึงเครื่องวัดความเครียดความต้านทาน

Pปัสสาวะ	Cการคัดค้าน(wt%)	Iความขุ่น (ppm) ≤							Tสิ่งเจือปนของโลหะทั้งหมด (ppm)
	Cr	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.5	20 ±1.0	2500	1000	1500	150	100	200	100	≤5000
99.7	20 ±1.0	1500	800	1000	150	100	200	100	≤3000
99.8	20 ±1.0	1200	300	600	150	100	200	100	≤2000
99.9	20 ±1.0	600	200	500	100	100	200	50	≤1000
99.95	20 ±1.0	200	100	200	100	100	200	50	≤500

วัสดุพิเศษที่หลากหลายได้ทำการวิจัยเชิงลึกเกี่ยวกับโลหะผสมนิกเกิลโครเมียม，เราสามารถจัดหาองค์ประกอบโครเมียมได้ตั้งแต่ 5% -80%องค์ประกอบทั่วไป: Ni-5Cr wt%,Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr ที่%,Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%,Ni-40Cr ที่%, Ni-40Cr wt%,Ni-44Cr wt% , Ni-50Cr wt%，Ni-60Cr wt% และเราสามารถจัดหาความบริสุทธิ์ที่แตกต่างกัน 99.5%，99.7%，99.8%，99.9%，99.95%ผลิตภัณฑ์ของเรามีจำหน่ายกันอย่างแพร่หลายในอเมริกาเหนือ ยุโรป ญี่ปุ่น เกาหลี เอเชียใต้ และไต้หวัน และนำไปใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ: กระจกพื้นที่ขนาดใหญ่ อัตโนมัติ ตัวต้านทาน บันทึกแม่เหล็ก และการเคลือบ PVD วงจรรวม

ก่อนหน้า: CrAlW Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: CrTi Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง