CoNiFe Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

เป้าหมายสปัตเตอร์เหล็กนิกเกิลโคบอลต์ถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศมีการใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์สุญญากาศ เช่น ท่อยิง หลอดออสซิลเลชัน อิกนิตรอน และทรานซิสเตอร์โดยมีค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเชิงเส้นคล้ายกับกระจกแข็งที่มีอุณหภูมิต่ำกว่า -80~450°Cดังนั้นจึงมักใช้ในการผลิตส่วนประกอบที่มีการปิดผนึกด้วยอากาศในระดับสูงด้วยแก้วแข็งหรือเซรามิกสารเคลือบที่สะสมโดยเป้าหมายเหล็กนิกเกิลโคบอลต์มีคุณสมบัติแม่เหล็กอ่อนที่ดีเยี่ยม

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเป็นผู้ผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์เหล็กนิกเกิลโคบอลต์ตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา