CoFeTaZr Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

เป้าหมายสปัตเตอร์โคบอลต์เหล็กแทนทาลัมเซอร์โคเนียมถูกประดิษฐ์ขึ้นโดยการหลอมสูญญากาศกระบวนการผลิตนี้สามารถปกป้ององค์ประกอบหลักจากการเกิดออกซิเดชันได้อย่างมีประสิทธิภาพ และรับประกันโครงสร้างจุลภาคที่เป็นเนื้อเดียวกัน ขนาดเกรนที่สม่ำเสมอ และความสม่ำเสมอสูงของฟิล์มที่สะสมอยู่

หลังจากการอบชุบด้วยความร้อน PTF ของชิ้นงานสามารถปรับปรุงได้อย่างมีนัยสำคัญ ดังนั้นจึงมักใช้กับวัสดุชั้นแม่เหล็กอ่อนในชั้นบันทึกแม่เหล็กตั้งฉาก

วัสดุพิเศษที่อุดมไปด้วยเชี่ยวชาญในการผลิตเป้าหมายสปัตเตอร์และสามารถผลิตวัสดุสปัตเตอร์ริ่งแทนทาลัมเซอร์โคเนียมโคบอลต์เหล็กตามข้อกำหนดของลูกค้าหากต้องการข้อมูลเพิ่มเติมโปรดติดต่อเรา