ขายส่ง CoCrAlY โลหะผสมสปัตเตอร์เป้าหมายฟิล์มบาง PVD ความบริสุทธิ์สูงเคลือบสั่งทำพิเศษผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่าย |รวย

โคบอลต์โครเมียมอลูมิเนียมอิตเทรียม

CoCrAlY Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ภาพที่โดดเด่น

คำอธิบายสั้น:

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	CoCrAlY
องค์ประกอบ	โคบอลต์โครเมียมอลูมิเนียมอิตเทรียม
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ
ขนาดที่มีจำหน่าย	L≤200มม.,W≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดผลิตภัณฑ์

แท็กสินค้า

คำอธิบายเป้าหมายโคบอลต์โครเมียมอลูมิเนียมอิตเทรียมสปัตเตอร์

เป้าหมายสปัตเตอร์อิตเทรียมโคบอลต์โครเมียมอะลูมิเนียมเป็นโลหะผสมที่มีโคบอลต์เป็นหลัก พร้อมด้วยองค์ประกอบโครเมียมอลูมิเนียมและอิตเทรียมเพิ่มเติมมีพฤติกรรมต้านทานการกัดกร่อนได้ดีในตัวกลางเกลือหลอม (โซเดียมซัลเฟต, โซเดียมไนเตรต, โซเดียมคาร์บอเนต, แคลเซียมซัลเฟต, แคลเซียมซัลเฟต, โซเดียมคลอไรด์โพแทสเซียมคลอไรด์, โซเดียมคลอไรด์โซเดียมซัลเฟต) ที่อุณหภูมิสูงโครเมียม อะลูมิเนียม อิตเทรียมอาจมีอัตราส่วนที่แตกต่างกัน ขึ้นอยู่กับสภาพแวดล้อมการทำงานของชั้นต่างๆโดยปกติแล้ว โลหะผสมจะแสดงโครงสร้างแบบไบเฟสิกในขณะที่ปริมาณโครเมียมอยู่ที่ 20-40% (น้ำหนัก อลูมิเนียม 5-20% (น้ำหนัก) และอิตเทรียม 0.5% (น้ำหนัก)

เป้าหมายโคบอลต์โครเมียมอลูมิเนียมอิตเทรียมสามารถสะสมบนพื้นผิวของส่วนประกอบที่มีอุณหภูมิสูงซึ่งใช้ในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ เครื่องบิน และกังหันก๊าซชั้นประเภทนี้สามารถยืดอายุการใช้งานได้หนึ่งหมื่นชั่วโมง

โคบอลต์โครเมียมอลูมิเนียมอิตเทรียมบรรจุภัณฑ์เป้าหมายสปัตเตอร์

เป้าหมายสปัตเตอร์ CoCrAlY ของเราได้รับการติดแท็กและติดป้ายกำกับไว้ภายนอกอย่างชัดเจน เพื่อให้มั่นใจในการระบุตัวตนและการควบคุมคุณภาพที่มีประสิทธิภาพมีการใช้ความระมัดระวังเป็นอย่างยิ่งเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายที่อาจเกิดขึ้นระหว่างการจัดเก็บหรือการขนส่ง

รับการติดต่อ

เป้าหมายการสปัตเตอร์โคบอลต์โครเมียมอะลูมิเนียมอิตเทรียมของ RSM มีความบริสุทธิ์สูงและสม่ำเสมอเป็นพิเศษมีจำหน่ายในรูปแบบ ความบริสุทธิ์ ขนาด และราคาต่างๆเราเชี่ยวชาญในการผลิตวัสดุเคลือบฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม เช่นเดียวกับความหนาแน่นสูงสุดที่เป็นไปได้และขนาดเกรนเฉลี่ยที่เล็กที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้สำหรับใช้ในการเคลือบแม่พิมพ์、การตกแต่ง、ชิ้นส่วนรถยนต์、กระจก low-E、วงจรรวมกึ่งตัวนำ、ฟิล์มบาง ความต้านทาน、จอแสดงผลกราฟิก、การบินและอวกาศ、การบันทึกแม่เหล็ก、หน้าจอสัมผัส、แบตเตอรี่พลังงานแสงอาทิตย์แบบฟิล์มบางและการใช้งานการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) อื่น ๆกรุณาส่งคำถามถึงเราสำหรับการกำหนดราคาปัจจุบันเกี่ยวกับเป้าหมายสปัตเตอร์และวัสดุการทับถมอื่น ๆ ที่ไม่อยู่ในรายการ

ก่อนหน้า: CrW Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: CoFeTaZr Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง