ขายส่ง AlSi Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูงผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายสั่งทำพิเศษ |รวย

อลูมิเนียมซิลิคอน

AlSi Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูง Custom Made ภาพเด่น

คำอธิบายสั้น:

หมวดหมู่	เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะผสม
สูตรเคมี	อัลซี
องค์ประกอบ	อลูมิเนียมซิลิคอน
ความบริสุทธิ์	99.9%，99.95%，99.99%
รูปร่าง	เพลท， เป้าหมายคอลัมน์， แคโทดโค้ง， สั่งทำพิเศษ
กระบวนการผลิต	การหลอมเหลวแบบสุญญากาศ PM
ขนาดที่มีจำหน่าย	ยาว≤2000มม., กว้าง≤200มม

ส่งอีเมลถึงเรา

รายละเอียดผลิตภัณฑ์

แท็กสินค้า

คำอธิบายเป้าหมายอลูมิเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์ริ่ง

เป้าหมายจะถูกเตรียมโดยการผสมผงอะลูมิเนียมและซิลิคอน ตามด้วยการบดอัดจนมีความหนาแน่นเต็มที่วัสดุที่ถูกบดอัดดังกล่าวสามารถเลือกที่จะเผาผนึกได้ จากนั้นจึงขึ้นรูปเป็นรูปร่างเป้าหมายที่ต้องการเป้าหมายสปัตเตอร์อะลูมิเนียมซิลิคอนของเรามีจำหน่ายในรูปแบบเรขาคณิตสี่เหลี่ยม วงกลม หรือแบบสั่งทำพิเศษ ปริมาณอะลูมิเนียมตั้งแต่อะตอม 10-90% และมีความบริสุทธิ์สูง โครงสร้างจุลภาคที่เป็นเนื้อเดียวกัน ความหนาแน่นสูง และอายุการใช้งานยาวนาน

อลูมิเนียมซิลิคอนถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมยานยนต์ เครื่องบิน และการก่อสร้าง เนื่องจากมีการผสมผสานคุณลักษณะที่ต้องการอย่างมีเอกลักษณ์ เช่น น้ำหนักเบา การนำความร้อนได้ดี และคุณสมบัติทางกลความหนาแน่นของวัสดุนี้คือ 2.6~2.7g/cm3 ค่าสัมประสิทธิ์การนำความร้อน 101~126W/(m·℃) โมดูลัสแรงดึง 71.0GPa ขีดจำกัดความล้า ±45MPaโลหะผสมอะลูมิเนียม-ซิลิคอนยังมีความต้านทานการกัดกร่อน ความสามารถในการขึ้นรูป และการเชื่อมได้ดีเยี่ยมโลหะผสมอลูมิเนียม-ซิลิคอนถูกนำมาใช้ในการใช้งานยานยนต์ การบินและอวกาศ และผลิตภัณฑ์อุปโภคบริโภคที่หลากหลาย เช่น เสื้อสูบและปลอกสูบ ลูกสูบ วัสดุโลหะผสมแบริ่ง และส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค+2มีจุดหลอมเหลว ความเหนียว ความแข็ง และความต้านทานการกัดกร่อนสูง

บรรจุภัณฑ์เป้าหมายอลูมิเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์

เป้าหมายสปัตเตอร์อะลูมิเนียมซิลิคอนของเรามีการติดแท็กและติดฉลากไว้ภายนอกอย่างชัดเจน เพื่อให้มั่นใจในการระบุตัวตนและการควบคุมคุณภาพที่มีประสิทธิภาพมีการใช้ความระมัดระวังเป็นอย่างยิ่งเพื่อหลีกเลี่ยงความเสียหายที่อาจเกิดขึ้นระหว่างการจัดเก็บหรือการขนส่ง

รับการติดต่อ

เป้าหมายสปัตเตอร์อะลูมิเนียมซิลิคอนของ RSM มีความบริสุทธิ์สูงและสม่ำเสมอเป็นพิเศษมีจำหน่ายในรูปแบบ ความบริสุทธิ์ ขนาด และราคาต่างๆเราเชี่ยวชาญในการผลิตวัสดุเคลือบฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม เช่นเดียวกับความหนาแน่นสูงสุดที่เป็นไปได้และขนาดเกรนเฉลี่ยที่เล็กที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้สำหรับใช้ในการเคลือบแม่พิมพ์、การตกแต่ง、ชิ้นส่วนรถยนต์、กระจก low-E、วงจรรวมกึ่งตัวนำ、ฟิล์มบาง ความต้านทาน、จอแสดงผลกราฟิก、การบินและอวกาศ、การบันทึกแม่เหล็ก、หน้าจอสัมผัส、แบตเตอรี่พลังงานแสงอาทิตย์แบบฟิล์มบางและการใช้งานการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) อื่น ๆกรุณาส่งคำถามถึงเราสำหรับการกำหนดราคาปัจจุบันเกี่ยวกับเป้าหมายสปัตเตอร์และวัสดุการทับถมอื่น ๆ ที่ไม่อยู่ในรายการ

ก่อนหน้า: CrAl Alloy Sputtering Target ฟิล์มบาง PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง

ต่อไป: AlSiCu Alloy Sputtering Target การเคลือบ Pvd ฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงทำเอง